半導體生產過程中使用了大量無機物，包括許多有害有害物質，對環境危害較為嚴重。如不通過尾氣處理設備對廢氣尾氣加以控制，將會產生較大的環境污染。因此，需要進行廢氣處理工程。
半導體廢氣成分
半導體產業中的酸性廢氣主要來源于清洗工序，其中使用的清洗劑溶劑中含有大量酸性廢氣，主要成分為硝酸，硫酸，氫氟酸等，在工藝過程中，這些大部分通過揮發成為廢氣排放。
半導體廢氣處理方法
半導體酸廢氣處理主要采用方法：噴淋法。
根據企業情況，此案例主要是采用堿液體二級噴淋法，又稱化學洗滌法。
因液體自身具有的溶解特性，可以更好地利用酸堿中和去除污染物，而達到大氣排放標準，故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。

酸霧凈化塔工藝
通過設備直接連接將廢氣收集起來，在風機的作用下將廢氣源源不斷向凈化設備輸送，再經過通風管道的輸送作用，使廢氣輸送到系統的噴淋塔內，氣體在噴淋塔塔內經過堿性洗液的噴淋洗滌過程，廢氣中所含有的容易產生酸霧的氣體成份充分與堿性水霧接觸混合并且發生中和反應，并且形成較好的氣液兩相交和。經過噴淋后的水霧再在洗滌塔內的填料層內形成一個多孔接觸面較大的處理層，從而進一步對酸霧進行治理。

酸霧洗滌塔適用范圍：
酸霧洗滌塔主要適用于硫酸、硝酸、氫氟酸、鹽酸等生產工藝操作過程產生酸/堿性廢氣處理。

來源：環保